中商情報(bào)網(wǎng)訊：掩模版又稱光掩模、光罩、掩膜版，是微電子加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。掩模版作為圖形信息的載體，通過(guò)曝光過(guò)程，將圖形轉(zhuǎn)移到基體材料上，從而實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移。國(guó)家相關(guān)支持政策明確了半導(dǎo)體行業(yè)在國(guó)民經(jīng)濟(jì)中的戰(zhàn)略地位。掩模版作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的上游核心材料，技術(shù)壁壘高，國(guó)內(nèi)自產(chǎn)率低，長(zhǎng)期依賴國(guó)外進(jìn)口，在當(dāng)前貿(mào)易摩擦、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)逆全球化的國(guó)際形勢(shì)下，國(guó)產(chǎn)替代大勢(shì)所趨。

近年來(lái)，國(guó)家相關(guān)部門從財(cái)政、稅收、技術(shù)、人才、知識(shí)產(chǎn)權(quán)等多個(gè)角度對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)及其關(guān)鍵材料給予了政策支持，為掩模版行業(yè)及其上下游行業(yè)創(chuàng)造了良好的經(jīng)營(yíng)環(huán)境，有力地推動(dòng)了我國(guó)掩模版行業(yè)的發(fā)展。掩模版行業(yè)具體政策如下：

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