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2024年全球CMP設(shè)備市場規(guī)模及發(fā)展前景預(yù)測分析(圖)

2023-11-10 來源:中商產(chǎn)業(yè)研究院
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關(guān)鍵詞: CMP設(shè)備

中商情報網(wǎng)訊:化學(xué)機械拋光(CMP)設(shè)備主要用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,可分為8英寸CMP設(shè)備、12英寸CMP設(shè)備和6/8英寸兼容CMP設(shè)備。


市場規(guī)模分析

近年來,全球CMP市場規(guī)??傮w呈增長趨勢。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029年中國CMP設(shè)備行業(yè)市場前景預(yù)測及未來發(fā)展趨勢研究報告》數(shù)據(jù)顯示,2019-2020年,受全球半導(dǎo)體景氣度下滑影響,CMP設(shè)備市場規(guī)模有所下降。2022年,全球半導(dǎo)體行業(yè)景氣度回暖,CMP設(shè)備市場規(guī)模為27.78億美元,其中,我國CMP設(shè)備市場規(guī)模在全球市場占比23.97%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測,2024年全球CMP設(shè)備市場規(guī)模將達29.1億美元。

數(shù)據(jù)來源:SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理


發(fā)展前景

1.半導(dǎo)體技術(shù)高速發(fā)展促進行業(yè)發(fā)展

化學(xué)機械拋光技術(shù)依靠其優(yōu)秀的全局平坦化能力、廣泛的適用性以及低成本特點逐漸成為半導(dǎo)體制造過程中的主流平坦化技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展、芯片集成度的提高,CMP設(shè)備的重要性以及在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的投資占比也逐步增加。


2.國家產(chǎn)業(yè)政策支持

近年來,我國陸續(xù)推出了多項產(chǎn)業(yè)支持政策,推動了半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展并加速了半導(dǎo)體設(shè)備的國產(chǎn)化進程。《中華人民共和國國民經(jīng)濟和社會發(fā)展第十四個五年規(guī)劃和2035年遠(yuǎn)景目標(biāo)綱要》中明確集中優(yōu)勢資源攻關(guān)核心技術(shù),半導(dǎo)體設(shè)備作為集成電路領(lǐng)域的重點裝備亦被納入其中。


3.半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)遷移

中國大陸是全球最大的電子終端消費市場和半導(dǎo)體銷售市場,吸引著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向大陸的遷移。近年來,中美貿(mào)易摩擦凸顯出供應(yīng)鏈安全的重要性和急迫性,半導(dǎo)體設(shè)備制造作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基石將迎來高速發(fā)展。