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日本:7月23日起將限制尖端半導體制造設備出口

2023-05-24 來源:國際電子商情
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關鍵詞: 半導體設備

據日媒報道,日本經濟產業(yè)省5月23日公布了外匯法法令修正案,將先進芯片制造設備等23個品類追加列入出口管理的管制對象,上述修正案在經過2個月的公告期后,將在7月23日實行。


美國已嚴格限制向中國出口用于超級計算機和人工智能(AI)的尖端半導體的制造設備等。并一直要求擁有這些技術的日本和荷蘭采取同樣的措施。在此背景下,日本此舉等同跟隨美國腳步。


日本7月23日起施行尖端半導體出口限制



根據日本《外匯法》,對可用于軍事目的的武器等民用物品的出口進行管制,出口需要事先獲得經濟產業(yè)省的許可。雖然中國和其他特定國家和地區(qū)未被明確列為受監(jiān)管對象,但新增的23個項目將需要單獨許可證,不包括友好國家等42個國家和地區(qū)的許可證,這給中國和其他國家的出口帶來了實際困難。


據經濟產業(yè)省稱,該計劃涉及清洗、成膜、熱處理、曝光、蝕刻、檢查等23個種類,包括極紫外(EUV)相關產品的制造設備和三維堆疊存儲元件的蝕刻設備等。就計算用邏輯半導體的性能而言,它是制造電路線寬10至14納米或更小的尖端產品的必備設備。


具體來看,日本政府新增的半導體方向出口管控對象明細:


  • 清洗設備:半導體前段工藝除去表面異物的清洗設備;

  • 成膜設備:利用等離子旋轉晶圓,形成原子級別膜的設備,利用EUV光掩膜的成膜設備,準確形成硅膜、硅化合物膜的設備;

  • 熱處理:通過熱處理,除去薄膜內空隙的設備;

  • 曝光:EUV涂覆、顯影設備,防護板(EUV光掩膜方向)生產設備,ArF液浸式曝光設備;

  • 蝕刻:具有立體結構的最尖端的蝕刻設備;

  • 檢查:EUV光掩膜檢測設備。

3月31日發(fā)表的半導體制造設備貿易管制規(guī)則


事實上,日本政府早在3月31日發(fā)表了半導體制造設備貿易管制規(guī)則,將限制23種半導體制造設備的出口。當時消息稱,在征求公眾意見后,日本經濟產業(yè)省計劃于5月發(fā)布修訂后的省令,并于7月實施。


日本經濟產業(yè)大臣西村康稔當天向媒體表示:“我們正在履行我們作為一個技術國家的責任,為國際和平與穩(wěn)定作出貢獻”。他強調,日本希望阻止其先進技術被用于軍事目的,并沒有考慮到具體的國家。


但此舉仍然遭到各界強烈反對。中國是在日本半導體設備出口對象國家中占比達到4成的最大市場,預計Tokyo Electron(TEL)和SCREEN控股等十幾家日本企業(yè)將受到影響。此外,摩擦和業(yè)務萎縮趨勢也有可能在貿易管制范圍之外的商業(yè)領域擴大。


當時有報道稱,日本一家大型半導體制造設備生產企業(yè)的相關負責人感到困惑:“我們做出了各種各樣的設想,但比預想的更難理解?!?/span>


中方回應


5月23日,商務部新聞發(fā)言人就此事答記者提問時表示,日本政府正式出臺針對23種半導體制造設備的出口管制措施,這是對出口管制措施的濫用,是對自由貿易和國際經貿規(guī)則的嚴重背離,中方對此堅決反對。


在日方措施公開征求意見期間,中國產業(yè)界紛紛向日本政府提交評論意見,多家行業(yè)協(xié)會公開發(fā)表聲明反對日方舉措,一些日本行業(yè)團體和企業(yè)也以各種方式表達了對未來不確定性的擔憂。但令人遺憾的是,日方公布的措施未回應業(yè)界合理訴求,將嚴重損害中日兩國企業(yè)利益,嚴重損害中日經貿合作關系,破壞全球半導體產業(yè)格局,沖擊產業(yè)鏈供應鏈安全和穩(wěn)定。


日方應從維護國際經貿規(guī)則及中日經貿合作出發(fā),立即糾正錯誤做法,避免有關舉措阻礙兩國半導體行業(yè)正常合作和發(fā)展,切實維護全球半導體產業(yè)鏈供應鏈穩(wěn)定。中方將保留采取措施的權利,堅決維護自身合法權益。