全球光刻機(jī)龍頭ASML（阿斯麥）今日公布了截至2022年6月30日的第二季度財(cái)務(wù)數(shù)據(jù)。

財(cái)報(bào)顯示，ASML二季度銷售收入為54.3億歐元（約合人民幣375.46億元），高于之前給出的51億至53億歐元的財(cái)測目標(biāo)，相比2021 年同期的40億歐元增長約35.75%；凈利潤為14.1億歐元（約合人民幣97.55億元），相比去年同期的10.4億歐元增長約35.58%；毛利率為49.1%，符合之前預(yù)期的毛利率約49%-50%的區(qū)間。

 

ASML表示，銷售收入和凈利潤同比大幅提升的原因是新訂單量創(chuàng)歷史新高，盡管有跡象表明銷售增長在放緩，但該公司仍在盡可能快地向客戶交付設(shè)備。

不過，根據(jù)路孚特?cái)?shù)據(jù)顯示，雖然ASML第二季度收入超過了分析師預(yù)期的52.8億歐元，但是其利潤則低于分析師預(yù)期的14.4億歐元。

對此，ASML表示，這主要是因?yàn)槭艿搅送ㄘ浥蛎泴?dǎo)致成本上升的影響，使得利潤率出現(xiàn)下滑。此外，一些系統(tǒng)在荷蘭進(jìn)行全面測試之前就開始向客戶發(fā)貨，導(dǎo)致了延遲確認(rèn)收入，從而影響了收益。

二季度交付了12臺(tái)EUV光刻機(jī)，設(shè)備銷售額占比已達(dá)48%

從具體的凈系統(tǒng)銷售明細(xì)來看，二季度的凈系統(tǒng)銷售額為41.41億歐元，其中EUV光刻系統(tǒng)的銷售額占比已經(jīng)由一季度的26%大幅提升到了48%，ArFi系統(tǒng)的銷售額占比則由一季度的47%下滑到了33%。其中，EUV系統(tǒng)的交付量為12臺(tái)，ArFi系統(tǒng)的交付量為21臺(tái)。

以客戶端應(yīng)用劃分來看，二季度ASML凈系統(tǒng)銷售額的71%的收入來自于邏輯芯片制造廠商，29%來自于存儲(chǔ)芯片制造廠商。以營收來源的區(qū)域劃分來看，二季度ASML凈系統(tǒng)銷售額的41%來自于中國臺(tái)灣地區(qū)，33%來自于韓國，10%來自于中國大陸。值得注意的是，來自美國的占比由一季度的6%快速提升到了10%。

 

二季度預(yù)定金額創(chuàng)新高，High-NA EUV系統(tǒng)占比達(dá)63.8%

此外，ASML二季度的凈預(yù)訂金額達(dá)到了84.6 億歐元（約合人民幣583.55已元，一季度為70億歐元），創(chuàng)下歷史新高。其中就包括了包括 0.33 NA EUV系統(tǒng)和0.55 NA的High-NA EUV系統(tǒng)的54億歐元預(yù)定金額，占比高達(dá)63.8%。作為對比，ASML一季度來自0.33 NA和0.55 NA EUV系統(tǒng)的預(yù)定金額僅有25億歐元。

 

ASML目前正在開發(fā)當(dāng)中的高數(shù)值孔徑 (high-NA) EUV光刻機(jī)是基于 0.33 數(shù)值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統(tǒng)的迭代產(chǎn)品，其具有 0.55 數(shù)值孔徑的鏡頭，分辨率為 8 納米，而現(xiàn)有的0.33 數(shù)值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統(tǒng)的分辨率為 13 納米，使得芯片制造商能夠生產(chǎn)3/2nm及以下更先進(jìn)制程的芯片，并且圖形曝光的成本更低、生產(chǎn)效率更高。

據(jù)了解，第一代的0.55 NA EUV光刻機(jī)EXE:5000主要面向的是3nm工藝。而第二代的0.55 NA EUV光刻機(jī)TWINSCAN EXE:5200將會(huì)被用于2nm工藝的生產(chǎn)。

根據(jù)資料顯示，ASML的新一代High-NA EUV系統(tǒng)的單臺(tái)售價(jià)將達(dá)到約4億美元，這也是ASML二季度預(yù)定金額大幅增長的關(guān)鍵。

在去年的年報(bào)當(dāng)中，ASML有指出，其在2021年四季度就已經(jīng)收到了首個(gè)第二代的0.55 NA EUV系統(tǒng)（TWINSCAN EXE:5200）的訂單，預(yù)定的客戶是英特爾。英特爾計(jì)劃利用ASML的0.55 NA EUV系統(tǒng)來生產(chǎn)其Intel 20A制程。而在此之前，自2018年以來，截至2021年四季度末，ASML已經(jīng)收到四份第一代的0.55 NA EUV系統(tǒng)TWINSCAN EXE:5000的訂單。

此外，據(jù)BusinessKorea 報(bào)道，三星已就引進(jìn)今年生產(chǎn)的 EUV 光刻設(shè)備和計(jì)劃于明年推出的 High-NA EUV 光刻設(shè)備與ASML達(dá)成了協(xié)議。

ASML在二季度財(cái)報(bào)公布后披露了公司的 High-NA EUV業(yè)務(wù)進(jìn)展，目前ASML已收到了來自供應(yīng)商的第一臺(tái)高數(shù)值孔徑（High-NA）機(jī)械投影光學(xué)器件、光源以及新的晶圓載物臺(tái)。這些模塊將用于初始測試和集成，這是 EXE:5000系列的重要一步進(jìn)展。

三季度銷售額預(yù)計(jì)為51～54億歐元，全年增長目標(biāo)降至10%

對于三季度的業(yè)績指引，ASML預(yù)計(jì)凈銷售額在51億歐元到54億歐元之間，其中包括安裝管理收入約14億歐元。后續(xù)季度延遲確認(rèn)的凈收入約為11億歐元。毛利率在49%到50%之間。研發(fā)成本約8.1億歐元。

由于供應(yīng)鏈限制，ASML預(yù)計(jì)2022年銷售額同比增長約10%，較此前預(yù)期增長20%大幅下修。毛利率在49%-50%之間

ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 表示：“一些客戶在某些消費(fèi)者驅(qū)動(dòng)的細(xì)分市場中顯示出需求放緩的跡象，但我們?nèi)匀豢吹綄ξ覀兿到y(tǒng)的強(qiáng)勁需求。雖然我們?nèi)杂?jì)劃在今年交付創(chuàng)紀(jì)錄數(shù)量的系統(tǒng)，但供應(yīng)鏈限制的增加導(dǎo)致出現(xiàn)了延遲。”