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- 今年5nm,2026年2nm,EUV光刻機(jī)攪局者,終于要量產(chǎn)了
- ASML 高數(shù)值孔徑 High NA EUV 光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)“初次曝光”
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- 中國或?qū)⒘慨a(chǎn)5納米,限制光刻機(jī)供應(yīng)擋不住中國芯前進(jìn)的腳步
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